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摩方高精度光固化3d打印機microArch® S230（精度：2μm），基于面投影微立體光刻技術（PμSL）構建。全自動水平調節(jié)系統(tǒng)：平臺自動調平、膜面自動調平、滾刀自動調節(jié)三大系統(tǒng)，打印效率提升近50倍。

電化學沉積微納金屬3D打印系統(tǒng)-Exaddon CERES是基于電化學沉積（Electrochemical Deposition），可以在室溫下以亞微米級分辨率打印超高精密金屬器件，且無需進行后處理。該系統(tǒng)非常適用于生物傳感、高頻通訊器件、微流控、傳熱和微機械等領域的創(chuàng)新研究。

摩方精密復合精度光固化3D打印機 D1025，復合光學精度：10μm和25μm，打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)，極限微尺度復合樹脂增材制造設備?？蓱糜谏镝t(yī)療、精密電子、微流控、半導體、航空航天等領域。

摩方精密復合精度光固化3D打印系統(tǒng)microArch® D0210，復合光學精度：2μm和10μm，打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)，極限微尺度復合樹脂增材制造設備。

高精度微納3D打印系統(tǒng)nanoArch S130 ，光學精度2微米，支持光敏樹脂材料打印。系統(tǒng)基于摩方精密創(chuàng)新面投影微立體光刻技術（PμSL），并融入了摩方自主開發(fā)的多項技術。